荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML首席執(zhí)行官克里斯托夫·福凱特在接受NRC采訪時透露，中國在芯片制造領(lǐng)域仍落后于西方10至15年。ASML是全球唯一生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)（EUV）的公司，這些機(jī)器每臺價值數(shù)億美元，能夠?qū)?fù)雜的電路圖案以比頭發(fā)還細(xì)的線條刻印在硅片上。最新的高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)更是能生產(chǎn)更先進(jìn)的芯片。

盡管中國最大的芯片代工廠中芯國際（SMIC）和制造商華為在面對美國出口管制和制裁的情況下，仍成功生產(chǎn)出支持5G的7納米芯片，但福凱特指出，由于無法獲得EUV光刻機(jī)，中國的芯片制造技術(shù)仍遠(yuǎn)落后于西方。目前，中芯國際只能使用較舊的深紫外光刻機(jī)（DUV），這使得其生產(chǎn)的芯片節(jié)點遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于臺積電和三星代工目前使用的3納米節(jié)點。明年，臺積電和三星代工將開始量產(chǎn)2納米節(jié)點的芯片。

ASML仍然向中國銷售DUV光刻機(jī)，并提供維修服務(wù)。美國試圖阻止ASML在中國進(jìn)行DUV光刻機(jī)的維修，但ASML有充分的理由繼續(xù)提供這些服務(wù)。如果ASML停止維修，中國可能會通過自行維修學(xué)習(xí)到敏感的技術(shù)信息，進(jìn)而仿制DUV光刻機(jī)。因此，ASML希望避免這種情況的發(fā)生，繼續(xù)保持與中國市場的良好業(yè)務(wù)關(guān)系。

華為和中芯國際正在努力開發(fā)自己的光刻工具，希望最終能夠生產(chǎn)與臺積電和三星代工相同工藝節(jié)點的芯片。然而，這一過程可能需要10至15年的時間。屆時，臺積電、三星代工和其他西方代工廠可能已經(jīng)使用更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，生產(chǎn)出更加先進(jìn)的芯片。